Том 13, номер 03, статья № 14

Аннотация:

Генерационные свойства и фотостабильность транс-стильбена и его метилзамещенных в растворах исследованы при накачке излучением эксимерного XeCl-лазера. Показано, что фотостабильность соединений зависит от интенсивности излучения накачки, а именно она возрастает при увеличении интенсивности облучения. Этот факт объясняется возможной конкуренцией процессов фотоизомеризации молекул и вынужденного излучения.

Список литературы:

1. Sension R.J., Repinec S.T., Szarka A.Z., Hochstrasser R.M. // J. Chem. Phys. 1993. V. 98(8).P. 6291–6315.
2. Waldeck D.H. // Chem. Rev. 1991. V. 91. P. 415–436.
3. Теренин А.Н. Фотоника молекул красителей. Л.: Наука, 1967. 616 с.
4. Yoshiharo K., Namiki A., Sumitani M., Nakashima N. // J. Chem. Phys. 1979. V. 71. № 7. P. 2892–2895.
5. Введение в фотохимию органических соединений / Под ред. Т.О. Беккера. Л. : Химия, 1976. 378 с.
6. Паркер С. Фотолюминесценция растворов. М.: Мир, 1972. 380 с.
7. Banares L., Heikal A.A., Zewail A.H. // J. Phys. Chem. 1992. V. 96. № 11. P. 4127–4130.
8. Heikal A.A., Baskin J.S., Banares L., Zewail A.H. // J. Phys. Chem. A. 1997. V. 101. P. 572–590.
9. Шенберг А. Препаративная органическая фотохимия. М.: Изд-во иностр. лит., 1963. 443 с.