Том 14, номер 05, статья № 16
Скопировать ссылку в буфер обмена
Аннотация:
Экспериментально исследуется возможность использования ВРМБ для формирования дифракционной расходимости и повышения контраста излучения в лазерной системе на основе электроразрядных XeCl-усилителей. Показано, что ОВФ при ВРМБ дает возможность корректировать фазовые искажения в активной среде, астигмати-ческие и сферические аберрации в оптическом тракте, а ВРМБ позволяет получать контраст излучения 106-107.
Список литературы:
1. Slatkin M., Bigio I.J., Feldman B.J., Fisher R.A. Efficient phase conjugation of an ultraviolet XeF laser beam dy stimulated Brillouin scattering // Opt. Lett. 1982. V. 7. № 3. P. 108–110.
2. Gower M.C., Caro R.G. KrF laser with a phase conjugate Brillouin mirror // Opt. Lett. 1982. V. 7. № 4. P. 162–163.
3. Бычков Ю.Ф., Лосев В.Ф., Панченко Ю.Н. Экспериментальное исследование эффективности ОВФ пучка XeCl-лазера при ВРМБ // Квант. электрон. 1992. Т. 19. № 7. С. 688–690.
4. Bigio I.J., Feldman B.J., Fisher R.A., Slatkin M. / Phase conjugation and image-retaining reflection of KrF laser radiation at 2486A // IEEE J. Quantum. Electron. 1981. V. 17. № 12. P. 220–223.
5. Бредерлов Г., Филл Е., Фусс В., Хола К., Фольк Р., Витте К.Й. Разработка мощного йодного лазера в институте физики плазмы в Гарчинге, ФРГ // Квант. электрон. 1976. T. 3. № 4. C. 906–913.
6. Кормер С.Б., Куликов С.М., Николаев В.Д. Сеник А.В., Сухарев С.А. Исследование возможности применения ВРМБ для повышения контраста лазерного излучения // Письма в ЖТФ. 1979. Т. 5. Вып. 4. С. 213–216.
7. Гулевич В.М., Илюхин А.А., Маслянкин В.А., Шелоболин А.В. Контраст излучения неодимового лазера с использованием обращения волнового фронта при ВРМБ // Квант. электрон. 1982. T. 9. № 3. C. 537–541.
8. Kushner M.J. Microarcs as a termination mechanism of optical pulses in electric-discharge-excited KrF excimer lasers // IEEE Trans. Plasma Sci. 1991. V. 19. № 2. P. 387–391.
9. Демьянов А.В., Кочетов И.В., Напартович А.П., Капителли М., Лонго С. Влияние колебательной кинетики HCl на развитие микронеустойчивостей и характеристики электроразрядного XeCl-лазера в условиях неоднородной предыонизации // Квант. электрон. 1995. Т. 22. № 7. С. 673–682.
10. Демьянов А.В., Дерюгин А.А., Дятко Н.А., Елкин Н.Н., Кочетов И.В., Напартович А.П., Свотин П.И. Влияние неоднородностей накачки и усиленного спонтанного излучения на характеристики широкоапертурного XeCl-усилителя // Квант. электрон. 1990. Т. 17. № 9. C. 1150–1155.
11. Боровков В.В., Андраманов А.В., Воронов С.Л. Интерференционные исследования плазмы трехэлектродного XeCl-лазера // Квант. электрон. 1999. Т. 26. № 1. С. 19–24.
12. Григорьянц А.Г., Шиганов И.Н. Лазерная сварка металлов. М.: Высш. школа, 1988. C. 100.
13. Поповичев В.И., Рагульский В.В., Файзуллов Ф.С. ВРМБ при широком спектре возбуждающего излучения // Письма в ЖЭТФ. 1974. Т. 19. Вып. 6. С. 350–355.